فوٹو وولٹک اضافی

* مضبوط صفائی کی طاقت: سلیکون ویفرز پر کلینر ایچنگ کے نتائج کو یقینی بناتے ہوئے، طاقتور داغ ہٹانے کا کام فراہم کرتا ہے۔
* اعلی مطابقت: موجودہ ایچ جے ٹی اور TopCon کے عمل کے لیے موزوں ہے۔
* محفوظ اور ماحول دوست: کوئی دہن یا دھماکے کا خطرہ، غیر زہریلا، اور کسی خاص حفاظتی اقدامات کی ضرورت نہیں ہے۔

* نیم کے مطابق ویفر کی صفائی کو یقینی بناتا ہے۔
* نامیاتی/غیر نامیاتی آلودگیوں، دھاتی آئنوں کو ہٹاتا ہے۔<1ppb.
* مونو/پولی ویفرز اور HJT سیلز کے ساتھ ہم آہنگ۔
* ہلکا فارمولہ مائیکرو کریکس کو کم کرتا ہے، کارکردگی کو بڑھاتا ہے۔

* نانوسکل کھردرا پن 10٪ سے کم عکاسی کو کم کرتا ہے۔
* اعلی بیچ مستقل مزاجی کے ساتھ مستحکم عمل۔
* کوٹنگ کی آسنجن اور سیل کے استحکام کو بہتر بناتا ہے۔
* کمرے کے درجہ حرارت کے رد عمل سے توانائی کے استعمال میں 30 فیصد کمی واقع ہوتی ہے۔
* آسانی سے کللا کرنے والا فارمولا آلودگی کو روکتا ہے۔

* یکساں اہرام ڈھانچے بناتا ہے، روشنی کی گرفت میں 5% اضافہ کرتا ہے۔
* کنٹرول شدہ اینچنگ کی شرح اوور/انڈر اینچنگ سے گریز کرتی ہے۔
* انتہائی خالص فارمولہ سوڈیم/لوہے کی آلودگی کو کم کرتا ہے۔
* PERC، TOPcon اور دیگر اعلی کارکردگی والے خلیوں کے ساتھ ہم آہنگ۔
* فاسفورس اور نائٹروجن سے پاک، ماحول دوست۔

* دھاتی آکسائڈز اور سطح کے نقصان کو ہٹاتا ہے، اقلیتی کیریئر کی زندگی بھر میں بہتری لاتا ہے۔
* سنکنرن روکنے والا محفوظ آپریشن کے لیے تیزاب کے دھوئیں کو کم کرتا ہے۔
* الیکٹرانک گریڈ کا مواد آلودگی سے بچتا ہے۔

* تیل اور ذرات کو مؤثر طریقے سے ہٹاتا ہے، روشنی جذب کو بڑھاتا ہے۔
* کم سنکنرن فارمولہ ویفر سطح کی سالمیت کی حفاظت کرتا ہے۔
* ہیوی میٹل فری، RoHS کے مطابق، آسان گندے پانی کا علاج۔
* مونو/پولی کرسٹل لائن ویفرز اور مختلف آلات کے ساتھ ہم آہنگ۔
* مرتکز فارمولہ استعمال کی لاگت کو کم کرتا ہے۔